(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化薄膜溅镀参数的灰关联分析优化

更新时间:2023-05-28

【摘要】采用直流反应式磁控溅镀法在硅晶片和住友刀具BN2000上制备(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化薄膜。通过正交试验考察了溅镀功率、沉积温度、氮氩气流量比和基材偏压对薄膜的摩擦因数、硬度和刀具磨损的影响。对信噪比进行灰关联分析,以实现多目标优化,得出最佳工艺参数为:溅镀功率200 W,沉积温度200℃,氮氩气流量比0.3,基材偏压-100 V。该条件下所得薄膜的摩擦因数为0.46,显微硬度为1 243.72 HV,刀具磨损最小。

【关键词】 高熵合金氮化物 反应式磁控溅镀 沉积参数 摩擦因数 显微硬度 磨损 灰关联分析

阅读全文